真空电镀是一种物理沉积现象，即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其原理是在高度真空条件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金属铝片受热蒸发并附于(塑料)工件表面﹐形成一层金属膜的方法。
真空电镀的特点:
1> 真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复制出啤件表面的形状。
2> 工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵。
3> 蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低。
4> 只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰。
5> 对镀件表面质量要求较高，通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。
6> 真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等。
